全自动真空离子溅射仪

镀膜的主要⽅式有：离⼦溅射（包括直流溅射和磁控溅射）和热蒸发两种。镀膜仪主要是利⽤两种镀膜⽅式，在样品表⾯镀⼀层纳⽶级厚的导电膜，使不导电的物体变得导电，同时不会对样品的原始形貌造成影响，依然可以获得真实的样品形貌特征。

直流溅射⼯作原理

★靶材、样品均处于真空室中，可⼯作真空度约5-30Pa(参考值）；

★⼯作时⾸先进⾏抽真空，实现辉光放电所需的低⽓压环境;

★靶材接⾼压，本设备输出为-2400V，为负极;样品台接地，为正极;

★靶材与样品台之间形成⾼压电场，电离⽓体，可⽤空⽓、Ar、N2;

★⽓体电离后，正离⼦⻜向负极，轰击靶材，靶材原⼦被溅射⻜出，沉积到样品上形成导电膜;

★镀膜过程中有⼀定温升。

磁控溅射⼯作原理

★⼤致与直流溅射相同;靶材后有磁铁，直流没有;

★靶材电压为-600V左右，显著低于直流;

★绝⼤部分电⼦和负离⼦在电场和磁场的共同作⽤下，做螺旋线运动，单个电⼦电离的⽓体分⼦⼤⼤多于直流，因此，在较

好的真空、较低的电压下即可获得较⼤的电流;

★在磁场在作⽤下，绝⼤部分电⼦和部分负离⼦落在靶材附近，⽆法到达样品台，对样品基本没有热损伤。

产品优势

★全⾃动微电脑控制，更智能;

★镀‮效膜‬果稳定、膜‮均厚‬匀、一致性好;

★内置10步操作向导，5分钟即可熟练使⽤设备;

★样品台内置⾼度调节功能，1秒即可调节;

★真空玻璃，专利技术，全透明⽅便全⽅位观察。