离子溅射仪(镀膜仪)介绍

离子溅射仪(镀膜仪)

上次我们聊过柔性无机生物电子器件研究进展,这次我们聊聊离子溅射仪(镀膜仪)。
在制备柔性电子器件过程中,我们常常会涉及到镀膜的问题,除之前介绍过的大面积成膜技术,我们还可以使用另一种设备进行镀膜操作,比如:离子溅射。
离子溅射仪的镀膜的主要方式有两种:热蒸发和离子溅射(包括直流溅射和磁控溅射)。
热蒸发是通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积到样品表面并形成膜。
离子溅射是将靶材、样品均置于真空室中;首先进行抽真空,实现辉光放电所需的低气压环境;靶材接高压,为负极;样品台接地,为正极;靶材与样品台之间形成高压电场,电离气体;气体电离后,正离子飞向负极,轰击靶材,靶材原子被溅射飞出,沉积到样品上形成导电膜。
使用掩模版在玻璃基底上制备微型叉指电极
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